高盛:长鑫 2030年前有望实现翻倍增长,3D DRAM研发2027年突破
摘要:202 6年 7 月 27 日,中国 DRAM 龙头企业长鑫科技正式登陆上交所科创板。就在上市前三日( 7 月 24 日),高盛紧急召开“中国存储专家电话会议”,围绕中国 DRAM 产能扩张、产品研发进展及全球存储价格走势三大议题展开深度研讨。产能:2030年有望实现翻倍增长,高盛视其为确定性主线高盛对中国本土 DRAM 供应商的产能扩张前景持积极判断。据其分析,到 2030 年,中国存储龙头产能

202 6年 7 月 27 日,中国 DRAM 龙头企业长鑫科技正式登陆上交所科创板。就在上市前三日( 7 月 24 日),高盛紧急召开“中国存储专家电话会议”,围绕中国 DRAM 产能扩张、产品研发进展及全球存储价格走势三大议题展开深度研讨。
产能:2030年有望实现翻倍增长,高盛视其为确定性主线
高盛对中国本土 DRAM 供应商的产能扩张前景持积极判断。据其分析,到 2030 年,中国存储龙头产能有望在现有基础上实现翻倍以上增长。产能扩张布局覆盖合肥、上海、北京三地,预计相关项目均在 2028 年前陆续全面投产;此外,一处超大型基地将于 2028 年后开始贡献产能,进一步驱动中国 DRAM 供给持续攀升。
值得关注的是,新增DRAM产能不仅采购国际一线设备,也在加速引入国产半导体设备。据专家介绍,部分工厂在光刻机以外的环节已主要采用本土设备。高盛据此作出核心判断:中国DRAM产能扩张不可逆,国产设备替代加速是确定性主线。无论长鑫存储等厂商扩产进度如何,北方华创、中微公司、盛美半导体等本土半导体设备供应商均将是直接受益方。
HBM3 量产目标明确,3D DRAM 研发有望 2027 年突破
在产品技术层面,高盛指出,中国本土 DRAM 龙头的产品性能持续迭代升级,但与三星、SK 海力士等全球一线厂商相比仍存在一定差距。具体而言:HBM3 及 HBM3E 量产是本土龙头 2026 年的明确目标;受制于 EUV 光刻设备出口管制,中国厂商需借助 DUV 及其他创新工艺路线开发高端产品;专家预判,3D DRAM 有望在 2027 年实现产品研发新突破,为绕过 EUV 限制提供可行路径。
财务数据显示,长鑫科技2026 年一季度实现营业收入 508 亿元,同比增长 719%;按收入计,全球 DRAM 市场份额已增长至 8%,位列全球第四大 DRAM 厂商。公司预计 2027 年上半年营业收入将达到 1100 亿元至 1200 亿元。上市首日,长鑫科技开盘报 49.5 元/股,较发行价 8.66 元大涨 471.59%,开盘总市值约 3.31 万亿元,一举超越工商银行成为 A 股总市值第一。
高盛在电话会议中表示,长鑫科技上市不只是一个 IPO 事件,更是中国半导体“国产替代”从概念走向商业落地的里程碑。
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